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      印制電路板(PCB)電鍍過程中鍍層分層原因

      2009年04月13日 10:15 5892次瀏覽 來源:   分類: 鎳資訊

        干膜掩孔出現(xiàn)破孔
        很多客戶認為,出現(xiàn)破孔后,應當加大貼膜溫度和壓力,以增強其結(jié)合力,其實這種觀點是不正確的,因為溫度和壓力過高后,抗蝕層的溶劑過度揮發(fā),使干膜變脆變薄,顯影時極易被沖破孔,我們始終要保持干膜的韌性,所以,出現(xiàn)破孔后,我們可以從以下幾點做改善:
        曝光能量偏高或偏低
        在紫外光照射下,吸收了光能量的光引發(fā)劑分解成游離基引發(fā)單體進行光聚合反應,形成不溶于稀堿的溶液的體型分子。曝光不足時,由于聚合不徹底,在顯影過程中,膠膜溶脹變軟,導致線條不清晰甚至膜層脫落,造成膜與銅結(jié)合不良;若曝光過度,會造成顯影困難,也會在電鍍過程中產(chǎn)生起翹剝離,形成滲鍍。所以控制好曝光能量很重要。
        銅的表面經(jīng)過處理后,清洗的時間不易過長,因為清洗水也含有一定的酸性物質(zhì)盡管其含量微弱,但對銅的表面影響不能掉以輕心,應嚴格按照工藝規(guī)范規(guī)定的時間進行清洗作業(yè)。
        金層從鎳層表面脫落的主要原因,就是鎳的表面處理的問題。鎳金屬表面活性差很難取得令人滿意的效果。鎳鍍層表面易在空氣中產(chǎn)生鈍化膜,如處理不當,就會使金層從鎳層表面分離。如活化不當在進行電鍍金時,金層就會從鎳層表面脫離即起皮脫落。第二方面的原因是因為活化后,清洗的時間過長,造成鎳表面重新生成鈍化膜層,然后再去進行鍍金,必然會產(chǎn)生鍍層脫落的疵。

      責任編輯:靜觀世界

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