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      科技部發(fā)布新材料技術(shù)超高純鋁靶材項(xiàng)目申請(qǐng)

      2008年05月13日 0:0 5047次瀏覽 來源:   分類: 鋁資訊

        據(jù)科技部消息:物理氣相沉積(PVD)是半導(dǎo)體芯片和TFT-LCD生產(chǎn)過程中最關(guān)鍵的工藝之一,PVD用濺射金屬靶材是半導(dǎo)體芯片生產(chǎn)及TFT-LCD制備加工過程中最重要的原材料之一,濺射金屬靶材中用量最大的是超高純鋁和超高純凈鋁合金靶材。
        由此可見,研發(fā)具有自主知識(shí)產(chǎn)權(quán)的大尺寸超高純鋁靶材的制造關(guān)鍵技術(shù),開發(fā)出滿足半導(dǎo)體行業(yè)及TFT-LCD產(chǎn)業(yè)需求的超高純鋁靶材產(chǎn)品,對(duì)于我國相關(guān)產(chǎn)業(yè)的發(fā)展具有重要意義。
        為公正、公平、公開地選擇項(xiàng)目承擔(dān)單位,充分調(diào)動(dòng)相關(guān)企業(yè)、科研院所及高等院校的積極性,集成全國在鋁的精煉提純、大尺寸鋁板形變加工及濺射金屬靶材專業(yè)制備等領(lǐng)域的優(yōu)勢研發(fā)力量開展本項(xiàng)目的工作,科技部發(fā)布了《國家高技術(shù)研究發(fā)展計(jì)劃(863計(jì)劃)新材料技術(shù)領(lǐng)域“大尺寸超高純鋁靶材的制造技術(shù)”重點(diǎn)項(xiàng)目申請(qǐng)指南》。

      責(zé)任編輯:CNMN

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